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Accelrys Materials Studio V4.3 材料科學模擬 英文版
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Accelrys Materials Studio V4.3 材料科學模擬 英文版

-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-= HoneRiSO Apps -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-= 軟體名稱: Accelrys Materials Studio V4.3 語系版本: 英文版 光碟片數: 單片裝 保護種類: 授權檔 破解說明: 見最底下 系統支援: Windows XP(SP3)/Vista(SP1) 硬體需求: http://accelrys.com/products/materials-studio/system-requirements.html 軟體類型: 材料科學模擬 更新日期: 2008.12.25 軟體發行: Accelrys(Z.WTiSO) 官方網站: http://accelrys.com/products/materials-studio 中文網站: 無 軟體簡介: (以官方網站為準) -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-= Accelrys Materials Studio 專門為材料科學模擬所設計,能方便的建立 3D 分子 模型,深入分析有機、無機晶體、無定形材料以及聚合物,可以在催化劑、聚合物 、固體化學、結晶學、晶粉衍射以及材料特性等材料科學研究領域進行性質預測、 聚合物模型建製和 X 光衍射模擬, 操作靈活方便,並且最大限度地運用網路資源 功能 DISCOVER 分子力學和動力學程式。基於力場計算出最低能量構型、分子體系的結構和動力學 軌跡等 COMPASS 對凝聚態材料進行原子水平模擬的力場。可以在很大的溫度、壓力範圍內精確地預 測孤立體系或凝聚態體系中各種分子的結構、構象、振動以及熱物理性質。 Reflex 模擬晶體材料的 X 光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜 DMol3 密度泛函程式,可用於研究均相催化、多相催化、分子反應性、分子結構等,也可 預測溶解度、蒸氣壓、配分函數、溶解熱、混合熱等性質 CASTEP 量子力學程式,應用於陶瓷、半導體、金屬等多種材料,可研究晶體材料的性質、 表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構【能帶及態密度】、晶體的光學性質 、點缺陷性質【如空位、間隙或取代摻雜】、延展缺陷【晶粒間界、位錯】、體系 的 3D 電荷密度及波函數等。 VAMP 半經驗的分子軌道程式,適用於有機和無機的分子體系 -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-= 站長安裝測試環境與安裝說明: -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-= ‧測試環境 Windows Vista Service Pack 1 繁體中文版、AMD Ahtlon 64 X2 Dual Core 5000+ 2.61 GHz、1 GB 記憶體、NTSF 格式 80.0Gb 硬碟。 ‧見光碟 "安裝說明.txt" 中文說明 -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=
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